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경제성 요구 사항과 환경 보호 요구 사항이 향상됨에 따라 화학 공장의 고온 반응 가스 또는 테일 가스에서 미세한 고체 입자를 제거하는 것이 매우 중요해졌습니다. 현재 화학 공장에서 고온 먼지를 제거하는 방법에는 습식 먼지 추출과 고온 가스 여과라는 두 가지 주요 방법이 있습니다.

세척 먼지 제거 기술이라고도 불리는 습식 먼지 제거 기술은 물(또는 기타 액체)을 사용하여 먼지가 포함된 가스와 접촉시키고, 세척 후 먼지 입자를 가스로부터 분리하는 기술입니다. 가장 큰 장점은 구조가 간단하고 비용이 저렴하다는 것입니다.

핫가스 여과는 최근 개발된 고온 먼지 제거 기술입니다. 시스템의 핵심 장비는 금속 소결 필터를 필터 요소로 사용하는 기체-고체 필터로, 자동 온라인 블로우백 및 슬래깅을 실현할 수 있으며, 필터를 교체할 필요가 없어 화학 공장의 연속성과 안정성을 유지합니다. 그러나 그 비용은 종종 습식 먼지 제거보다 높습니다.
상대적으로 높은 비용에도 불구하고 전 세계 대부분의 화학 공장의 설계자와 기술 관리자는 여전히 먼지 제거를 위한 첫 번째 선택으로 고온 가스 여과를 선택합니다. 습식 먼지 제거와 비교하여 고온가스 여과는 다음과 같은 장점이 있습니다.

(1) 고효율: 금속 소결 필터의 최고 정밀도는 0.1μm에 도달할 수 있으며 먼지 제거 효율은 99.99%에 달합니다. 이는 특히 차단할 고체 입자가 높은 경우 습식 먼지 제거로는 달성할 수 없습니다. 추가 가치가 있거나 공장에서 필터링된 가스에 대해 높은 순도 요구 사항이 있는 경우 핫 가스 여과의 장점이 더 분명합니다.

(2) 비오염: 고온가스 여과는 오염물질을 생성하지 않는 반면, 습식 먼지 제거는 많은 폐수 또는 슬러리를 생성합니다.

(3) 간단한 조작: 고온 가스 여과는 수동 조작 없이 자동 블로우백, 분말 배출, 분말 치환 및 분말 냉각을 실현할 수 있으며 하류 펌프에 마모가 없으며 젖은 먼지가 있는 동안 열교환기나 트레이를 막지 않습니다. 제거를 위해서는 슬러리/폐수 처리 시스템을 추가해야 하며 공정이 복잡합니다.

(4) 낮은 에너지 소비: 고온 가스 여과에는 추가 에너지 소비가 필요하지 않지만 습식 먼지 제거에는 고유량 펌프 또는 다량의 증기 처리 슬러리 및 폐수가 필요합니다.

MTO(석탄 기반 메탄올에서 올레핀으로), FCC(촉매 분해), CCR(연속 촉매 개질), S-Zorb, 다결정 실리콘, 석탄 가스화, 고온 피셔와 같은 대부분의 화학 장치는 위와 같은 장점을 가지고 있습니다. -Tropsch 합성, 분말 촉매 생산 등이 선택됩니다. Hot gas filtration. 고온 가스 여과에 대해 자세히 알아보려면 벤츄리 펄스 블로우백을 사용한 고온 가스 여과를 클릭하십시오.