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폴리실리콘 산업에서 건식 먼지 제거의 전형적인 적용

현재 폴리실리콘 산업의 생산 방식은 주로 실란 방식과 변형 지멘스 방식이 있다. 수정된 지멘스 방식과 실란 방식은 주로 태양광 등급/전자 등급 결정질 실리콘을 생산합니다. 실란법은 다결정 실리콘 시드를 유동화 입자로 하여 실란을 유동층에 통과시켜 실란을 깨뜨려 시드 위에 침전시켜 입상 다결정 실리콘을 얻는 방법입니다. 변형된 지멘스 공법은 정제 후 삼염화실란을 환원시킨 후 증착을 통해 실리콘 로드를 생성하는 방식이다.

수정된 지멘스 방법은 국내외에서 가장 일반적이고 성숙한 방법입니다. 수정된 지멘스 방법은 공업용 실리콘 분말과 염화수소를 사용하여 트리클로로실란을 합성한 다음 트리클로로실란을 정류 및 정제하는 것입니다. 정제된 삼염화실란과 고순도 수소는 환원로에서 환원반응과 증착을 거쳐 고순도 폴리실리콘을 생성합니다. 그러나 삼염화실란을 환원시키는 과정에서 부산물인 사염화규소가 다량 생성되며, 환원로에서는 비정질 규소 분말도 다량 생성된다. 변형된 지멘스 방법에서는 생성된 사염화규소와 비정질 실리콘 분말이 테일 가스 회수 시스템으로 유입되어 비정질 실리콘 분말이 분리되고, 사염화규소는 정류 및 분리의 다음 단계로 들어간다.
온라인 실리콘 분말 필터, 실리콘 분말 수집 탱크 및 온라인 운영 시스템을 포함하여 금속막 필터 요소를 핵심으로 Shinkai가 개발한 배기 실리콘 분말용 온라인 여과 시스템은 높은 통과율을 통해 비정질 실리콘 분말을 완전히 차단할 수 있습니다. -정밀 필터 요소를 통해 다운스트림 시스템 장비의 유지 관리 빈도를 크게 줄이고 다운스트림 시스템의 안정적인 작동을 보장하며 재료 활용 효율성을 향상시킵니다.

또한, 지멘스 공법은 부산물인 사염화규소를 처리하기 위해 저온수소화 장치를 추가하여 개량한 것으로, 즉 사염화규소와 수소를 혼합 및 가열한 후 저온수소화 유동층 반응기에 통과시켜 산업용으로 반응시키는 방식이다. 트리클로로실란을 생성하기 위해 실리콘 분말을 첨가했습니다. 이 공정은 유동층 반응을 이용하기 때문에 다량의 미세 실리콘 분말이 반응 가스와 함께 후면 시스템으로 유입되는 것이 불가피하며, 이 실리콘 분말이 후면 시스템으로 유입되어 파이프라인이 마모되고 막히게 됩니다. 슬래그 슬러리 회수의 어려움이 증가하여 재료 회수율이 감소하고 재료 손실이 발생하며 환경 보호 압력이 증가합니다. 현재 상온수소화유동층 반응기 이후에 3단 사이클론을 설계하여 상기 언급한 실리콘 미세분말을 분리하고 있으나, 미세입자가 있는 실리콘 미세분말의 분리효과는 좋지 않다.
Shinkai가 개발한 저온 수소화 실리콘 분말 온라인 여과 시스템에는 고온 실리콘 분말 온라인 필터, 고압 실리콘 분말 호퍼, 실리콘 분말 수집 탱크, 히트 트레이싱 지원 및 온라인 감지 시스템이 포함됩니다. 고온, 열충격, 기공 크기의 정밀한 제어, 성분 재생이 용이하고 여과 시스템의 전체 압력차가 낮다는 특성을 통해 위에서 언급한 미세한 실리카 분말을 분리하면 탁월한 분리 효과를 얻을 수 있습니다.

현재 당사에서 개발 및 생산한 실리콘 분말 여과 시스템은 실리콘 업계에서 널리 사용되고 있으며 많은 여과 및 분리 문제를 해결했으며 고객들로부터 널리 호평을 받고 있습니다. 이 회사는 개선된 Siemens 방식, 실란 방식, 전자급 폴리실리콘 전체 공정 여과 솔루션을 개발했으며 유기 실리콘, 실리카 및 산업용 실리콘의 여러 세트의 실리콘 분말 여과 시스템을 개발했습니다. 파트너 페이지에서 많은 고객 사례를 찾을 수 있습니다. 폴리실리콘 여과에 대해 의문이 있는 경우 Shinkai에 문의하십시오.

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